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800G 向 1.6T 迭代,MTMPO 端面抛光,正在卡住高速光模块量产

800G 向 1.6T 迭代,MTMPO 端面抛光,正在卡住高速光模块量产
铭衍海微电子  2026/08/31  |  阅读:28

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产品配置单:
方案详情:

算力浪潮之下,800G 规模商用落地,1.6T 光模块加速导入,CPO 光电共封装技术持续推进,高密度 MTMPO 连接器需求迎来爆发式增长。 作为数据中心高速互联的核心器件,光纤端面的抛光质量,直接决定插入损耗、回波损耗,也决定整批光模块的成品良率。很多工厂设备齐全,却卡在抛光环节:划痕、纤芯凹陷、纤高差超标,批量生产时良率起伏不定,产能上不去。

传统 MTMPO 加工普遍沿用四步抛光工艺:去胶粗磨拉纤精抛 整套流程需要多次更换研磨介质与抛光垫,反复调试工艺参数,产线操作复杂,对操作工经验依赖性高。大批量生产时,换液带来的参数漂移,极易引发端面缺陷,制约产线提速。面对 12 芯、24 芯、32 芯多芯器件,每一根光纤高度、凹陷都需要严格管控,传统工艺的短板被进一步放大。

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行业痛点汇总

1.工序多、换料频繁,单盘研磨周期长,产能受限;

2.多芯纤高差难控制,微观划痕频发,不良返工率高;

3.进口耗材成本居高不下,交期不稳定,供应链风险突出;

4.新旧产线设备混杂,新工艺改造投入成本高。

工艺革新的方向,不是更换整套研磨设备,而是从抛光耗材配方入手,简化制程、稳定指标。 铭衍海微电子 MYH2in1系列抛光液,将传统 “拉纤 + 精抛” 两道工序融合,把经典四步工艺精简为三步,无需改造现有研磨设备,直接兼容主流四角加压、中心加压研磨机

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依托复合纳米悬浮磨料体系,产品同时兼顾整平拉纤与镜面精抛效果:

✅ 光纤高度稳定可控,纤芯凹陷、相邻纤高差满足电信级标准;

✅ 有效消除端面细微划痕,抛光后镜面均匀,批量良率可达 95% 以上;

✅ 减少换液、换垫频次,研磨时间缩短,产线综合效率提升;

✅ 国产自研抛光液,对标进口性能,支持上机试样验证,降低供应链压力。

当然,二合一抛光液并非完全替代四步工艺。针对部分超高可靠性、特种光器件场景,铭衍海微电子同样保留全套独立拉纤液、精抛抛光液、研磨垫组合方案,支持客户按需选择工艺路线。

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高速光互联时代,拼的不只是设备,更是耗材与工艺的匹配度。好的抛光方案,既要实现端面指标达标,更要兼顾量产稳定性、成本可控与供应链自主。 如果你的产线正面临 MPO 多芯抛光良率低、产能上不去的困扰,欢迎联系铭衍海微电子获取样品与工艺参数方案,共同打磨适配产线的最优解。


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